产品应用：
产品专业性
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
产品组成：
PECVD系统配置：
1.1200度开启式双温区真空管式炉
2.滑动系统分为手动、电动滑动。
3.等离子射频电源
4.多路质量流量控制系统
5.真空系统（可选配中真空或高真空）
产品特点：
生长温度低；沉积速率快；成膜质量好，适用范围广，设备简单。
特点展示：
产品参数：
|
系统名称
|
1200℃滑动双温区PECVD系统
|
|
系统型号
|
PECVD-12IIH-3Z/G
|
PECVD-12II6H-3Z/G
|
|
zui高温度
|
1200℃
|
|
加热区长度
|
420mm
|
610mm
|
|
恒温区长度
|
280mm
|
400mm
|
|
温区
|
双温区
|
双温区
|
|
石英管管径
|
Φ50/Φ60/Φ80mm
|
Φ80/Φ100mm
|
|
额定功率
|
3.2Kw
|
4.8Kw
|
|
额定电压
|
220V
|
220V
|
|
滑动方式
|
手动滑动/自动滑动(由温度控制器自动控制移动，当程序完成，炉子按设定的速度滑动）
|
|
温度控制
|
国产程序控温系统50段程序控温；
|
|
控制精度
|
±1℃
|
|
炉管zui高工作温度
|
＜1200℃
|
|
气路法兰
|
本实用新型在密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术，在密封法兰与管外壁间形成了密封，在管件外径误差较大的情况下密封仍然you效，该密封法兰的安装只需在第yi次使用设备的时候安装
|
|
气体控制方式
|
质量流量计
|
|
气路数量
|
3路（可根据具体需要选配气路数量）
|
|
流量范围
|
0-500sccm(标准毫升/分，可选配）氮气标定
|
|
精度
|
±1%F.S
|
|
响应时间
|
≤4sec
|
|
工作温度
|
5-450℃
|
|
工作压力
|
进气压力0.05-0.3Mpa(表压力）
|
|
系统连接方式
|
采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪
|
|
规格
|
中真空
|
高真空
|
|
系统真空范围
|
10Pa-100Pa
|
1x10-3Pa-1x10-1Pa
|
|
真空泵
|
双极机械泵理论极xian真空度3x10-1Pa，抽气速率4L/S,出气口配有油污过滤器，额定电压220V，功率0.55Kw
|
真空分子泵理论极xian真空度
5x10-6Pa抽气速率1600L/S
额定电压220V 功率2Kw
|
|
信号频率
|
13.56MHz±005%
|
|
功率输出范围
|
5W-500W
|
|
zui大反射功率
|
200W
|
|
射频输出接口
|
50Ω，N-type,temale
|
|
功率稳定度
|
±0.1%
|
|
谐波分量
|
≤-50dbc
|
|
供电电压
|
单相交流（187V-253V)频率50/60HZ
|
|
整机功率
|
≥70%
|
|
屏幕显示
|
正方向功率，匹配器电容位置，偏置电压值
|
|
整机尺寸
|
483×500×88MM
|
|
炉体外形尺寸
|
340×580×555mm
|
480×770×605mm
|
|
系统外形尺寸
|
530×2310×750mm
|
530×2310×750mm(不含高真空）
|
|
系统总重量
|
270kg
|
350kg
|
|
