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CVD系统真空管式炉
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>> 1200°C滑动式单/双温区CVD系统 真空管式
1.1200度开启式真空管式炉(可选配单温区、双温区)。 2.滑动系统分为手动、电动滑动,并配有风冷系统。 3.多路质量流量控 …
>> 1200°C单/双温区CVD系统 真空管式电炉
1.1200度开启式真空管式炉(可选配单温区、双温区)。 2.多路质量流量控制系统 3.真空系统(可选配中真空或高真空) …
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此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验 …
>> 1200°C滑动式三温区CVD系统 真空管式电炉
此款CVD系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控 生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结真空淬 …
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此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔 电极方面的研究,通过滑动炉实现快速加热和 …
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