产品专业性：
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
产品组成：
PECVD系统配置：
1.1200度开启式双温区真空管式炉
2.等离子射频电源
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统（可选配中真空或高真空）
产品特点：
生长温度低；沉积速率快；成膜质量好，适用范围广，设备简单。
特点展示：
产品参数：
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系统名称
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1200℃双温区PECVD系统
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系统型号
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PECVD-12II-3Z/G
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PECVD-12II6-3Z/G
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zui高温度
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1200℃
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加热区长度
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420mm
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610mm
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恒温区长度
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280mm
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400mm
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温区
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双温区
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双温区
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石英管管径
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Φ50/Φ60/Φ80mm
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Φ80/Φ100mm
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额定功率
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3.2Kw
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4.8Kw
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额定电压
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220V
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220V
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温度控制
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国产程序控温系统50段程序控温；
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控制精度
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±1℃
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炉管zui高工作温度
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＜1200℃
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气路法兰
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本实用新型在密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术，在密封法兰与管外壁间形成了密封，在管件外径误差较大的情况下密封仍然you效，该密封法兰的安装只需在第yi次使用设备的时候安装
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气体控制方式
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质量流量计
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气路数量
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3路（可根据具体需要选配气路数量）
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流量范围
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0-500sccm(标准毫升/分，可选配）氮气标定
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精度
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±1%F.S
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响应时间
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≤4sec
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工作温度
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5-45℃
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工作压力
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进气压力0.05-0.3Mpa(表压力）
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系统连接方式
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采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪
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规格
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中真空
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高真空
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系统真空范围
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10Pa-100Pa
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1x10-3Pa-1x10-1Pa
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真空泵
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双极机械泵理论极xian真空度3x10-1Pa，抽气速率4L/S,出气口配有油污过滤器，额定电压220V，功率0.55Kw
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真空分子泵理论极xian真空度
5x10-6Pa抽气速率1600L/S
额定电压220V 功率2Kw
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信号频率
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13.56MHz±005%
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功率输出范围
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5W-500W
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zui大反射功率
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200W
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射频输出接口
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50Ω，N-type,temale
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功率稳定度
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±0.1%
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谐波分量
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≤-50dbc
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供电电压
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单相交流（187V-253V)频率50/60HZ
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整机功率
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≥70%
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屏幕显示
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正方向功率，匹配器电容位置，偏置电压值
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炉体外形尺寸
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340×580×555mm
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480×770×605mm
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系统外形尺寸
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530×2310×750mm
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530×2310×750mm(不含高真空）
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系统总重量
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270kg
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350kg
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